纳米氧化锌

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SGN分散机可以处理量大，运转更平稳，拆装更方便,适合工业化在线连续生产，粒径分布范围窄，分散效果佳，*，物料通过分散剪切。具有非常高的剪切速度和剪切力，粒径约为0.2-2微米可以确保高速分散乳化的稳定性。

纳米氧化锌粒径介于1-100 nm之间，是一种面向21世纪的新型高功能精细无机产品，使其在陶瓷、化工、电子、光学、生物、医药等许多领域有重要的应用价值，具有普通氧化锌所无法比较的特殊性和用途。（价格电议薛：，，公司有样机可实验！）

纳米级粉末的分散，普遍会出现物料团聚的现象，导致粒径变大。SGN研磨式分散机，将胶体磨和分散机一体化结合，先研磨后分散机，解决团聚问题！

GMD2000系列研磨式分散设备是SGN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）

GMD2000系列研磨式分散机的特点：

①线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

②定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

⑤高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

GMD2000系列设备选型表

	流量*	输出	线速度	功率	入口/出口连接
类型	l/h	rpm	m/s	kW
GMD2000/4	300	9,000	23	2.2	DN25/DN15
GMD 2000/5	1000	6,000	23	7.5	DN40/DN32
GMD 2000/10	3000	4,200	23	22	DN80/DN65
GMD 2000/20	8000	2,850	23	37	DN80/DN65
GMD 2000/30	20000	1,420	23	55	DN150/DN125
GMD2000/50	60000	1,100	23	110	DN200/DN150
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。

1.表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2.处理量取决于物料的粘度，稠度和zui终产品的要求。

3.如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，必须提供准确的参数，以便选型和定制。

4.本表的数据因技术改动，定制而不符，正确的参数以提供的实物为准.

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