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    雾化石墨乳

    雾化石墨乳 ,石墨乳研磨分散设备采用上海SGN技术,*创意,融化理念。将SGN高剪切胶体磨进行进一步的改良,在原来GM2000系列的基础上,将单一的胶体磨磨头模块,改良成两级模块,加入了一级分散盘(均质盘、乳化盘)。

    • 产品型号:GMSD2000
    • 厂商性质:生产厂家
    • 更新时间:2022-09-29
    • 访 问 量:1240
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    产品详情

    一、产品名称概述:雾化石墨乳,粒度可控石墨乳分散机,溶剂型石墨乳 ,显像管用石墨乳

    二、石墨乳的简介

    石墨乳的主要成分是石墨粉(微粉石墨),因其呈乳状状态,所以常被称作石墨乳,根据石墨粉的导电、润滑、防腐、耐高温等特点生产的系列石墨乳可广泛用于导电、电磁屏蔽、抗静电、锻造、润滑、防腐、密封、丝网印刷线路、彩色显示器件制造等领域,起到导电、抗静电、防腐、润滑、密封、屏蔽等作用。

    在铸造领域中,石墨乳用于金属锻造的脱模剂,如钢锻件、铜锻件、合金锻件、铝锻件的脱模剂。石墨乳通过喷涂装置进行雾化,喷涂在模具的铸造型腔内。

    三、石墨乳的分散难点

    石墨分散有一部分企业采用超声波或者高速分散机进行分散处理,但是存在许多弊端。超声分散难以规模化,高速分散难以保证浆料的均匀度以及生产效率低。面对这个问题上海SGN研发出研磨式高剪切分散机,将胶体磨和分散机合二为一,先研磨打开二级团聚体,然后瞬间进行分散均质,保证石墨浆料的细化和分散均匀。尤其对于橡胶行业,采用传统间隙的分散设备无法均匀稳定将石墨分散到液体基体中,必须采用管线式分散设备,以确保物料更充分的剪切、分散。

    四、雾化石墨乳加工设备

    石墨乳改进型高速胶体磨SGN循环式作业方式的 是一款改进型胶体磨,特别适合新材料的研究制备,目前已成功应用于硅硼浆、石墨烯、石墨烯改性材料、碳纳米管、光伏材料、光催化研究,研究等多项科研和生产中。

    石墨乳粒径越小,越有利于石墨乳的雾化以及石墨电量的提高,石墨烯

    上海SGN在石墨领域的应用成功,为石墨行业的发展提供了设备支持,得到了充分的认可。SGN石墨烯分散设备采用德国先进的高速研磨分散技术,通过高转速(可达18000rpm)带动高精密的磨头定转子(通常配GM+8SF,定转子间隙在0.2-0.3之间)使石墨浆料在设备的高线速度下形成湍流,在定转子间隙里不断的撞击、破碎、研磨、分散、均质,从而得出超细的颗粒。

    五、石墨乳 的特点

    1、石墨乳研磨分散设备采用上海SGN技术,*创意,融化理念。将SGN高剪切胶体磨进行进一步的改良,在原来GM2000系列的基础上,将单一的胶体磨磨头模块,改良成两级模块,加入了一级分散盘(均质盘、乳化盘)。从而形成改良型的胶体磨,先研磨后分散(均质、乳化),将物料的处理一步到底的完成,我们将这种改良的胶体磨也称为“ ”。

    2、SGN 采用德国博格曼双端面机械密封,在保证冷却水的前提下,可24小时连续运行。而普通分散机很难做到连续长时间的运行,并且普通分散机不能承受高转速的运行。通过梳齿状定子切割破碎,缝隙疏密决定细度大小,高线速度的吸料式叶轮提供很强的切割力。

    3、 GMSD2000系列 的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。一级由具有精细度递升的三层锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。

    六、石墨乳 选型表

    标准流量(H2O)

    输出转速

    标准线速度

    马达功率

    进出口尺寸

    型号

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

    GMSD 2000/4

    300-1,000

    14000

    44

    2.2

    DN25/DN15

    GMSD 2000/5

    1,000-1.500

    10,500

    44

    7.5

    DN40 /DN 32

    GMSD 2000/10

    3,000

    7,300

    44

    15

    DN50 / DN50

    GMSD 2000/20

    8,000

    4,900

    44

    37

    DN80 /DN 65

    GMSD 2000/30

    20,000

    2,850

    44

    75

    DN150 /DN 125

    GMSD 2000/50

    40,000

    2,000

    44

    160

    DN200 /DN 150

    雾化石墨乳,粒度可控石墨乳分散机,溶剂型石墨乳 ,显像管用石墨乳

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